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全电介质反射膜建立在多光束干涉基础上。其效果与增透膜相反，是通过镀上一层折射率高于基体材料的薄膜，简单的说就是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀,使每层膜的光学厚度为某一波长的四分一。通过参加叠加的各界面上的反射光矢量，调整振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。
全电介质反射膜相较于金属反射膜，反光率得到较大提升，光损大幅减少，其性能得到提升
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