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高功率窄带滤光片

 本产品是具有对选择性光谱波长透过或截止的光学元器件。镀膜时同时采用直接和间接光控技术,镀膜方式跟进需求采用:离子束辅助沉积镀膜(IAD)或离子溅射(IBS)。
融石英基底 截止带宽大 波长 300-1200nm
  • 优点

    介质膜系,采用融石英基底替代有色玻璃,可以得到更高的透过率,承受更高功率。产品截止带宽较大,从紫外到红外(300-1200nm)截止,并从中截取需要高透过的波长。

    技术指标

    材料 UVFS(热稳定性好,承受功率更高)
    设计波长
    452nm/532nm/637nm/905nm/1064nm(其他波长可以按客 户需求设计)
    尺寸
    φ12.7*3/φ25.4*5 (其他尺寸可根据客户需求定制 2-200mm)
    透射波前
    λ/4(成像畸变要求更高可选择 λ/8)
    表面光洁度
    40/20(更高激光功率可选择 20/10)
    有效孔径
    >85%
    平行度
    <1 分(更高要求<1 秒)
    镀膜指标
    T>93%,半高宽(FWHM):15-60nm
    截止
    OD>3-5
    损伤阈值
    >20J/cm²@1064nm 20ns

  • 介质膜系,采用融石英基底替代有色玻璃,可以得到更高的透过率,承受更高功率。产品截止带宽较大,从紫外到红外(300-1200nm)截止,并从中截取需要高透过的波长。
  • 材料 UVFS(热稳定性好,承受功率更高)
    设计波长
    452nm/532nm/637nm/905nm/1064nm(其他波长可以按客 户需求设计)
    尺寸
    φ12.7*3/φ25.4*5 (其他尺寸可根据客户需求定制 2-200mm)
    透射波前
    λ/4(成像畸变要求更高可选择 λ/8)
    表面光洁度
    40/20(更高激光功率可选择 20/10)
    有效孔径
    >85%
    平行度
    <1 分(更高要求<1 秒)
    镀膜指标
    T>93%,半高宽(FWHM):15-60nm
    截止
    OD>3-5
    损伤阈值
    >20J/cm²@1064nm 20ns

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